Tetraethylorthosilicate

99+% pure

TEOS

(tetraethoxysilane)

Tetraethyl orthosilicate is the chemical compound with the formula Si(OC₂H₅)₄. Often abbreviated TEOS.

                                                   Specifications:

                                                                            Formula                                            Si(OC₂H₅)₄

                                                                            CAS Number                                    [78-10-4]

                                                                             Formula Weight                              208.33

                                                                             Density                                              0.934 gm/ml

                                                                             Purity                                                 99+% pure minimum

                                                                             Boiling Point                                     108^oC

                                                                             Melting Point                                    -85^oC

                                                                             Flash Point                                        46^oC

                                                                             Form                                                  liquid

                                                                             Refractive Index n20/D                 1.3820

                                                                             Merck Number                                14,3851

                                                                             EINECS                                             201-083-8

                                                                             RTECS                                              VV9450000

Hazard(s): flammable liquid, UN 1292, CL 3, PG III       

USE: TEOS is used as a precursor to silicon dioxide in the semiconductor industry and a liquid silicon source used for oxide deposition using LPCVD, APCVD and PECVD processes.

Other applications include coatings for carpets and other objects. TEOS is used in the production of aerogel.