Silicon Rotatable Sputter Targets

Typically Silicon Rotatable Sputter Targets are used for large scale coating of glass in applications such as anti-reflective coatings, band pass filters and polarizers, used in architectural and automotive and monitor display glass, all-dielectric mirrors and beam splitters.

Composition                                   Silicon 100%

Process                                            Plasma Spray

Purity                                                99.9% minimum

Theoretical Density                         2.33 gm/cm³

Actual Density                                 2.25 gm/cm³

Grain Size                                        < 250 microns

Porosity                                            < 0.5%

Parallelism Tolerance                     < 0.5 mm/Meter

Backing Tube                                  Stainless Steel 304 tube

Typical impurities:

Aluminum                      < 250 ppm 

Copper                          < 50 ppm                       

Iron                                 < 300 ppm                     

Manganese                   < 30 ppm                       

Nickel                             < 50 ppm                       

Nitrogen                        < 800 ppm                     

Oxygen                          < 1000 ppm                   

Titanium                        < 50 ppm                       

Vanadium                      < 30 ppm