Zinc Oxide Sputter Target

ZnO

ZnO Purity: 99.5% - 99.99%

Applications: Zinc Oxide (ZnO) Sputtering Target can be use in semiconductor, chemical vapor deposition (CVD) and physical vapor deposition (PVD) display and optical applications.

Zinc Oxide Specifications:

                                     Material Type                               Zinc Oxide

                                     Symbol                                         ZnO

                                    Color/Appearance                      White, Crystalline Solid

                                     Melting Point                                1,975°C

                                     Theoretical Density                    5.61 g/cm³

                                     Z Ratio                                          0.556

                                    Sputter                                          RF-R

                                     Max Power Density                    20 Watts/Square Inch 

                                     Type of Bond                               Indium, Elastomer

(Bonding is recommended for this material)

Available Forms:

Zinc Oxide (ZnO) Sputtering Target: Discs, Plates, Rotatable Targets, Step Targets, and Custom-made forms.

Maximum Diameter:        ≤ 14 inch (~355 mm)

Standard Thickness:        ≥ 1 mm