Nickel Sputtering Target

Ni

99% - 99.99% pure

Nickel Target Specifications:

         Material Type:                                        Nickel

         Symbol:                                                   Ni

         Atomic Weight:                                      58.6934

         Atomic Number:                                    28

         Color/Appearance:                               Lustrous, Metallic, Silvery Tinge

         Density:                                                   8.91 g/cm³

         Melting Point:                                         1453°C (lit.)

         Boiling Point:                                          2732°C (lit.)

         Resistivity:                                              6.97 μΩ-cm, 20°C

         Thermal Conductivity:                         91 W/m.K

         Melting Point:                                         1,453°C

         Coefficient of Thermal Expansion:     13.4 x 10^-6/K

         Ferromagnetic:                                     Magnetic Material

         Z Ratio:                                                    0.331

         Sputter:                                                   DC

         Max Power Density:                               50 Watts/Square Inch

Applications: Nickel (Ni) Sputtering Target can be use in semiconductor, chemical vapor deposition (CVD) and physical vapor deposition (PVD) display, decorative coatings and optical applications.

Available Forms:  Nickel (metal) Sputtering Target: Discs, Plates, Rotatable Targets, Step Targets, and Custom-made forms.